在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。A、DQNB、CAC、ARCD、PMMA

题目

在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。

  • A、DQN
  • B、CA
  • C、ARC
  • D、PMMA
相似考题

1.使用Hertrix爬取网页时建议使用()模式。A、MirrorB、KW3C、ARCD、TXT

2.在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？

3.下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。A、烘烤的目的是除去光刻胶中的水分B、烘烤可以减轻曝光中的驻波效应C、烘烤的温度一般在300℃左右D、烘烤的时间越长越好

4.光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）

参考答案和解析
正确答案:A
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  • 第1题：

    光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。

    • A、树脂
    • B、感光剂
    • C、HMDS
    • D、溶剂
    • E、PMMA

    正确答案:A,B,D

  • 第2题：

    光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。

    • A、红外线辐射
    • B、X射线照射
    • C、加热
    • D、紫外光辐射
    • E、电子束扫描

    正确答案:C,D

  • 第3题：

    在确定无框眼镜镜片的使用材料时，首选的是（）材料，其次是（）材料。

    • A、PC；CR-39
    • B、PMMA；CR-39
    • C、CR-39；PC
    • D、CR-39；PMMA

    正确答案:A

  • 第4题：

    晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。

    • A、除去光刻胶中剩余的溶剂
    • B、增强光刻胶对晶片表面的附着力
    • C、提高光刻胶的抗刻蚀能力
    • D、有利于以后的去胶工序
    • E、减少光刻胶的缺陷

    正确答案:A,B,C,E

  • 第5题：

    在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。

    • A、化学增强
    • B、化学减弱
    • C、厚度增加
    • D、厚度减少

    正确答案:A

  • 第6题：

    在Photoshop中拼接全景图需要遵循的规则是（）。

    • A、使用三脚架
    • B、使用广角镜头
    • C、使用自动曝光
    • D、拼接的两幅图像必须重叠5%

    正确答案:C

  • 第7题：

    判断题
    曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 对
    解析： 暂无解析

  • 第8题：

    问答题
    什么是正光刻胶，负光刻胶？

    正确答案： 正光刻胶：胶的曝光区在显影中除去，当前常用正胶为DQN，组成为光敏剂重氮醌（DQ），碱溶性的酚醛树脂（N），和溶剂二甲苯等。
    解析： 暂无解析

  • 第9题：

    判断题
    最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    问答题
    典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少？

    正确答案： 深紫外光刻胶的曝光宽容度是剂量变化范围在1%左右。
    解析： 暂无解析

  • 第11题：

    判断题
    在紫外光曝光、X射线曝光、电子束曝光技术中可实现直写式曝光不需要掩模版的是X射线曝光技术。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    判断题
    PMMA镜片的紫外线透过率为73.5%
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。

    • A、负胶受显影液的影响比较小
    • B、正胶受显影液的影响比较小
    • C、正胶的曝光区将会膨胀变形
    • D、使用负胶可以得到更高的分辨率
    • E、负胶的曝光区将会膨胀变形

    正确答案:A,C,D

  • 第14题：

    在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。

    • A、CA光刻胶对深紫外光吸收小
    • B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化
    • C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强
    • D、有较高的光敏度
    • E、有较高的对比度

    正确答案:A,B,C,D,E

  • 第15题：

    在AutoCAD中画圆弧的命令是（）

    • A、Circle
    • B、Line
    • C、Arc
    • D、Polygon

    正确答案:C

  • 第16题：

    用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。

    • A、ARC
    • B、HMDS
    • C、正胶
    • D、负胶

    正确答案:C

  • 第17题：

    在Photoshop中拼接全景图，在图像的拍摄时需要注意的是（）。

    • A、应使用标准镜头进行拍摄、使用手动曝光
    • B、使用标准镜头拍摄、使用自动曝光
    • C、使用标准镜头进行拍摄，拼接的图像曝光必须一致，二幅图像之间必须重叠20%以上，使用三脚架拍摄

    正确答案:C

  • 第18题：

    要使用HDR技术，必须拍摄HDR图像，这就需要为完全相同的场景以不同的曝光拍摄多幅图像。因此需要使用（）进行拍摄。

    • A、三脚架
    • B、包围曝光
    • C、滤色镜
    • D、长时间曝光技术

    正确答案:B

  • 第19题：

    问答题
    简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。

    正确答案： 光刻胶是一种有机化合物，它受紫外线曝光后在显影液中的溶解度发生显著变化，而未曝光的部分在显影液中几乎不溶解。
    光刻胶的用途：①做硅片上的图形模版（从掩膜版转移到硅片上的图形）；
    ②在后续工艺中，保护下面的材料（例如刻蚀或离子注入）。
    光刻对光刻胶的要求：①分辨率高；
    ②对比度好；
    ③敏感度好；
    ④粘滞性好；
    ⑤粘附性好；
    ⑥抗蚀性好；
    ⑦颗粒少。
    解析： 暂无解析

  • 第20题：

    单选题
    在Photoshop中拼接全景图，在图像的拍摄时需要注意的是（）。
    A

    应使用标准镜头进行拍摄、使用手动曝光

    B

    使用标准镜头拍摄、使用自动曝光

    C

    使用标准镜头进行拍摄，拼接的图像曝光必须一致，二幅图像之间必须重叠20%以上，使用三脚架拍摄


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    填空题
    光刻胶的三种主要成分是：（）。正胶的感光剂是（），曝光使其（），正胶的曝光区在显影后（）； 曝光使负胶的感光剂（），使曝光区在显影后（）。

    正确答案： 感光剂、基体材料和溶剂,重氮醌,长链分子断裂,去除,交联,保留
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    判断题
    如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    判断题
    光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是，光刻胶只对特定波长的光线敏感，例如深紫外线和白光，而对黄光不敏感。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

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