光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）A、刻制图形B、绘制图形C、制作图形

题目

光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）

  • A、刻制图形
  • B、绘制图形
  • C、制作图形
相似考题

1.当对处于不同图层上两个图形执行成组命令后，两个图形会如何（）A、两个图形仍在各自的图层上B、两个图形在一个新建的图层上C、两个图形在原来位于下面的图层上D、两个图形在原来位于上面的图层上键

2.光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）

3.图形处理内容包括（）。A、图形补充绘制B、图形变换C、图形修饰D、图表制作E、图像分色

4.金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）

更多“光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）A、刻制图形B、绘制图形C、制作图形”相关问题

  • 第1题：

    在文档中绘制了多个图形时，这些图形会相互重叠，导致下面的图形被遮盖，需要下方图形显示至上方所要进行的操作是（）。

    • A、设置图形叠放层次
    • B、组合对象
    • C、设置图形样式
    • D、设置图形大小

    正确答案:A

  • 第2题：

    关于绘制工艺流程图时，设备位号应标注在设备图形的位置，下列说法中不正确的是（）

    • A、上方
    • B、下方
    • C、侧面
    • D、设备图形内部

    正确答案:C

  • 第3题：

    下列关于动态块的制作的顺序正确的是：（）。

    • A、绘制几何图形——添加参数——添加动作
    • B、添加参数——添加动作——绘制几何图形
    • C、添加参数——绘制几何图形——添加动作
    • D、绘制几何图形——添加动作——添加参数

    正确答案:A

  • 第4题：

    当对处于不同图层上的两个图形执行成组命令后，两个图形会（）

    • A、两个图形仍在各自的图层上
    • B、两个图形在一个新建的图层上
    • C、两个图形在原来位于下面的图层上
    • D、两个图形在原来位于上面的图层上

    正确答案:D

  • 第5题：

    下列有关图形的前后关系描述正确的是：（）

    • A、最先绘制的图形，一般在后绘制的图形的下面
    • B、BringToFront（置前）命令可将所选图形放到所有图形的最前面
    • C、SendBackward（置后一层）命令可将所选图形放到所有图形的最后面
    • D、SendtoBack（置后）命令可对所有层的物件起作用

    正确答案:A,B

  • 第6题：

    在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。

    • A、刻蚀
    • B、氧化
    • C、淀积
    • D、光刻

    正确答案:D

  • 第7题：

    单选题
    下列有关图形的前后关系描述不正确的是：（）
    A

    在默认情况下，同一图层上先绘制的图形在后绘制的图形的后面

    B

    BringToFront（置前）命令可将所选图形放到同一图层上所有图形的最上面

    C

    SendBackward（置后一层）命令可将所选图形放到同一图层上所有图形的最下面

    D

    在同一图层上先绘制的图形一般在后绘制的图形的前面


    正确答案： B
    解析： 暂无解析

  • 第8题：

    单选题
    有关加锁后的图层，错误的说法是（）。
    A

    层内的图形无法编辑

    B

    不能继续向该层内绘制新图形

    C

    层内的图形可以被选择

    D

    不能改变层内的图形的图层


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第9题：

    判断题
    在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 对
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    判断题
    最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

  • 第11题：

    多选题
    下列有关图形的前后关系描述正确的是：（）
    A

    最先绘制的图形，一般在后绘制的图形的下面

    B

    BringToFront（置前）命令可将所选图形放到所有图形的最前面

    C

    SendBackward（置后一层）命令可将所选图形放到所有图形的最后面

    D

    SendtoBack（置后）命令可对所有层的物件起作用


    正确答案： A,D
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    单选题
    下列关于图层的描述，错误的是（）。
    A

    可以为任意一个图层指定线型、颜色、线宽等特性

    B

    图层被关闭后，位于该层上的图形将会隐藏，但可以被打印

    C

    图层一旦冻结后，位于该层上的图形既不会显示，也不会被打印

    D

    一旦在某图层上绘制了图形，那么该层不可被删除


    正确答案： C
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    下列有关图形的前后关系描述正确的是：（）

    • A、最先绘制的图形—般在后绘制的图形的下面
    • B、BringToFront（置前）命令可将所选图形放到所有图形的最前面
    • C、SendBackward（置后一层）命令可将所选图形放到所有图形的最后面
    • D、SendBack（置后）命令可对所有层的物件起作用

    正确答案:A,B

  • 第14题：

    下列关于图层的描述，错误的是（）。

    • A、可以为任意一个图层指定线型、颜色、线宽等特性
    • B、图层被关闭后，位于该层上的图形将会隐藏，但可以被打印
    • C、图层一旦冻结后，位于该层上的图形既不会显示，也不会被打印
    • D、一旦在某图层上绘制了图形，那么该层不可被删除

    正确答案:B

  • 第15题：

    下列有关图形的前后关系描述不正确的是：（）

    • A、在默认情况下，同一图层上先绘制的图形在后绘制的图形的后面
    • B、BringToFront（置前）命令可将所选图形放到同一图层上所有图形的最上面
    • C、SendBackward（置后一层）命令可将所选图形放到同一图层上所有图形的最下面
    • D、在同一图层上先绘制的图形一般在后绘制的图形的前面

    正确答案:D

  • 第16题：

    当对处于不同图层上两个图形执行成组命令后，两个图形会如何：（）

    • A、两个图形仍在各自的图层上
    • B、两个图形在一个新建的图层上
    • C、两个图形在原来位于下面的图层上
    • D、两个图形在原来位于上面的图层上

    正确答案:D

  • 第17题：

    晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。

    • A、除去光刻胶中剩余的溶剂
    • B、增强光刻胶对晶片表面的附着力
    • C、提高光刻胶的抗刻蚀能力
    • D、有利于以后的去胶工序
    • E、减少光刻胶的缺陷

    正确答案:A,B,C,E

  • 第18题：

    单选题
    当对处于不同图层上的两个图形执行成组命令后，两个图形会（）
    A

    两个图形仍在各自的图层上

    B

    两个图形在一个新建的图层上

    C

    两个图形在原来位于下面的图层上

    D

    两个图形在原来位于上面的图层上


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第19题：

    多选题
    图形处理内容包括（）。
    A

    图形补充绘制

    B

    图形变换

    C

    图形修饰

    D

    图表制作

    E

    图像分色


    正确答案： B,E
    解析： 本题考查图像、图形处理的内容。

  • 第20题：

    判断题
    投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 对
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    单选题
    下列关于动态块的制作的顺序正确的是：（）。
    A

    绘制几何图形——添加参数——添加动作

    B

    添加参数——添加动作——绘制几何图形

    C

    添加参数——绘制几何图形——添加动作

    D

    绘制几何图形——添加动作——添加参数


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    问答题
    最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？

    正确答案： 负光刻胶
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    问答题
    使用什么材料制作投影掩膜板，投影掩膜板上形成图形的不透明材料是什么？

    正确答案： 最主要的是用于亚微米光刻的投影掩膜版衬底材料是熔融石英。不透明材料是一薄层铬。
    解析： 暂无解析

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