例举离子注入设备的5个主要子系统。

题目

例举离子注入设备的5个主要子系统。

相似考题

1.综合运输系统的设备结构基本上有()两大子系统。A:移动设备子系统 B:备用设备子系统 C:综合设备子系统 D:专用设备子系统 E:固定设备子系统

2.离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。A、能量B、剂量

3.例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。

4.管理间子系统的主要设备是（）。

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  • 第1题：

    离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。

    • A、能量
    • B、剂量

    正确答案:A

  • 第2题：

    ERP系统中的物料管理系统主要包括（）。

    • A、物料需求计划子系统
    • B、设备管理子系统
    • C、采购管理子系统
    • D、销售管理子系统
    • E、库存管理子系统

    正确答案:C,D,E

  • 第3题：

    （）主要由终端设备连接到信息插座之间的设备组成，包括信息插座、插座盒、连接跳线和适配器。

    • A、工作区子系统
    • B、水平子系统
    • C、垂直干线子系统
    • D、管理间子系统

    正确答案:A

  • 第4题：

    例举在线参数测试的4个主要子系统。


    正确答案:在线参数测试的4个主要子系统为：
    （1）探针卡接口：是自动测试仪与待测器件之间的接口。
    （2）硅片定位：为测试硅片，首先要确与探针接触的硅片的探针仪位置。
    （3）测试仪器：高级集成电路需要能够在测试结构上快速、准确、重复地测量亚微安级电流和微法级电容的自动测试设备，它控制测试过程。
    （4）作为网络主机或客户机的计算机：指导测试系统操作的计算机包括测试软件算法、自动测试设备、用于硅片定位的探查控制软件、测试数据的保存和控制、系统校准和故障诊断。

  • 第5题：

    （）安装在各种设备的房间，对综合布线系统工程而言，主要是设备安装配线设备。

    • A、配线子系统
    • B、设备间
    • C、信道
    • D、建筑群子系统

    正确答案:B

  • 第6题：

    垂直干线子系统主要负责连接管理子系统到设备间子系统。（）


    正确答案:正确

  • 第7题：

    问答题
    简述离子注入工艺中退火的主要作用？

    正确答案： 由于离子注入所造成的损伤区及畸形团，增加了散射中心及陷阱能级，使迁移率和寿命等半导体参数下降。此外，大部分的离子在被注入时并不位于替位位置，未退火之前的注入区域将呈显高阻区。为（1）激活被注入的离子（使其变成替位杂质）；（2）恢复有序的晶格结构（如果是无定形结构，就谈不上替位杂质与间隙杂质），其目的是恢复迁移率（减少散射中心）和恢复寿命（减少缺陷能级，减少陷阱），必须在适当的时间与温度下将半导体退火。
    解析： 暂无解析

  • 第8题：

    问答题
    例举在线参数测试的4个主要子系统。

    正确答案： 在线参数测试的4个主要子系统为：
    （1）探针卡接口：是自动测试仪与待测器件之间的接口。
    （2）硅片定位：为测试硅片，首先要确与探针接触的硅片的探针仪位置。
    （3）测试仪器：高级集成电路需要能够在测试结构上快速、准确、重复地测量亚微安级电流和微法级电容的自动测试设备，它控制测试过程
    （4）作为网络主机或客户机的计算机：指导测试系统操作的计算机包括测试软件算法、自动测试设备、用于硅片定位的探查控制软件、测试数据的保存和控制、系统校准和故障诊断。
    解析： 暂无解析

  • 第9题：

    问答题
    列举离子注入设备的5个主要子系统。

    正确答案： 1.离子源
    2.引出电极和离子分析器
    3.加速管
    4.扫描系统
    5.工艺室
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    问答题
    离子注入工艺需要控制的工艺参数及设备参数有哪些？

    正确答案： 工艺参数：杂质种类、杂质注入浓度、杂质注入深度
    设备参数：弧光反应室的工作电压与电流、热灯丝电流、离子分离装置的分离电压及电流、质量分析器的磁场强度、加速器的加速电压、扫描方式及次数
    解析： 暂无解析

  • 第11题：

    判断题
    垂直干线子系统主要负责连接管理子系统到设备间子系统。（）
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    问答题
    例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。

    正确答案： 离子注入的优点：
    （1）精确控制杂质含量和分布
    （2）很好的杂质均匀性
    （3）对杂质穿透深度有很好的控制
    （4）产生单一离子束
    （5）低温工艺
    （6）注入的离子能穿透薄膜
    （7）无固溶度极限
    离子注入的缺点：
    （1）高能杂质离子轰击硅原子将对晶体结构产生损伤
    （2）注入设备的复杂性
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    请例举三个应用在大型工厂的设备。


    正确答案:大型工业工厂设备有：烧玻璃燃烧器、印刷机、烧毛头机、金属熔炉、大型的热水或蒸汽锅炉、燃气空调、所有需要产生高热的炉具如高炉、高温窑等。

  • 第14题：

    管理间为连接其他子系统提供手段，它是连接垂直子系统和水平子系统的设备，其主要设备是（）。

    • A、配线架
    • B、交换机和机柜
    • C、电源
    • D、跳线

    正确答案:A,B,C

  • 第15题：

    车站子系统主要设备包括哪些设备？


    正确答案: 车站自律机、车务终端、打印机、综合维修终端、电务维护终端、网络设备、电源设备、防雷设备、联锁系统接口设备和无线系统接口设备等。

  • 第16题：

    垂直干线子系统主要负责（）子系统到设备间子系统。


    正确答案:连接管理

  • 第17题：

    下列关于管理子系统的描述中，哪些是正确的？（）

    • A、管理子系统连接着垂直干线子系统和设备间子系统的设备
    • B、管理子系统由交连、互联和I/O组成
    • C、管理子系统的主要设备是配线架、Hub和机柜、电源
    • D、设备间与建筑群子系统各设施间的电缆属于管理子系统
    • E、管理子系统需要保持一定的温度和湿度，以保养好设备

    正确答案:B,C,E

  • 第18题：

    TDCS车站子系统主要设备包括哪些？


    正确答案:车站子系统：主要设备包括车站分机、车务终端、网络设备、电源设备、防雷设备、联锁系统接口设备和无线系统接口设备等。

  • 第19题：

    多选题
    综合运输系统的设备结构基本上有（）两大子系统。
    A

    移动设备子系统

    B

    备用设备子系统

    C

    综合设备子系统

    D

    专用设备子系统

    E

    固定设备子系统


    正确答案： E,B
    解析： 本题考查综合运输体系的组成。综合运输系统的设备结构基本上有两大子系统，即固定设备子系统和移动设备子系统。

  • 第20题：

    问答题
    例举离子注入设备的5个主要子系统。

    正确答案： （1）离子源：待注入物质必须以带电粒子束或离子束的形式存在。注入离子在离子源中产生
    （2）引出电极（吸极）和离子分析器：传统注入机吸极系统收集离子源中产生的所有正离子并使它们形成粒子束，离子通过离子源上的一个窄缝得到吸收。
    （3）加速管：为了获得更高的速度，出了分析器磁铁，正离子还要再加速管中的电场下进行加速
    （4）扫描系统扫描在剂量的统一性和重复性方面起着关键租用。
    （5）工艺室------离子束向硅片的注入发生在工艺腔中。
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    问答题
    简述离子注入设备的主要组成部分

    正确答案： 气体系统、电机系统、真空系统、控制系统、射线系统、电荷中性化系统、晶圆处理系统
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    问答题
    离子注入主要部件有哪些？

    正确答案： 有离子源、磁分析器、加速器、扫描器、偏束板和靶室。
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    问答题
    车站子系统主要设备包括哪些设备？

    正确答案： 车站自律机、车务终端、打印机、综合维修终端、电务维护终端、网络设备、电源设备、防雷设备、联锁系统接口设备和无线系统接口设备等。
    解析： 暂无解析

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