化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。
题目
化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。
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第1题：
铝合金管在焊接前应用机械或化学的方法进行清洗,以除去污泥等杂质。()此题为判断题(对，错)。
参考答案：错误
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第2题：
关于注射剂的处理方法叙述正确的是( )
A、原料质量不好时宜采用稀配法
B、溶解度小的杂质在稀配时容易滤过除去
C、活性炭吸附杂质常用浓度为0．1%～0．3%
D、活性炭在碱性溶液中对杂质的吸附作用比在酸性溶液中强
参考答案：C
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第3题：
在ITO玻璃清洗的过程中，使用碱性液清洗的目的主要是除去（）。
- A、有机物
- B、油污
- C、颗粒杂质
正确答案:A -
第4题：
反渗透化学清洗，酸清洗主要除去（）；碱清洗主要除去（）。
正确答案:无机物沉淀；有机物、微生物 -
第5题：
洗涤沉淀的目的是为了除去混杂在沉淀中的母液和吸附在沉淀表面上的杂质。
正确答案:正确 -
第6题：
清洗是通过物理、化学方法却除清洗表面可见杂质的过程。
正确答案:正确 -
第7题：
除去循环水系统中的硬垢和腐蚀产物，物理清洗的效果要好于化学清洗。
正确答案:错误 -
第8题：
锅炉系统煮炉就是利用加热和化学清洗的方法清除杂质和污物，以免影响蒸汽品质和损坏设备。
正确答案:正确 -
第9题：
使用简单的化学方法将下列混合物中的杂质除去 （1）吡啶中混有少量六氢吡啶 （2）α-吡啶乙酸乙酯中混有少量吡啶
正确答案:（1）先加苯磺酰氯，再抽滤除去六氢吡啶
（2）加入盐酸后除去水层 -
第10题：
洗发用品的作用是清洗和除去头发表面的污垢、油脂、灰尘、头皮屑及残留在头发上的其他化学用品。（）
正确答案:正确 -
第11题：
问答题硅片表面吸附杂质清洗顺序是什么？正确答案： 清洗顺序：去分子－去离子－去原子－去离子水冲洗－烘干、甩干解析： 暂无解析 -
第12题：
问答题硅片研磨及清洗后为什么要进行化学腐蚀？正确答案： 工序目的：去除表面因加工应力而形成的损伤层及污染解析： 暂无解析 -
第13题：
不能除去零件表面的积碳的方法是()A、油洗
B、化学清洗
C、碱性清洗剂清洗
D、机械清洗
参考答案：A
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第14题：
是利用药物和杂质的质量不同，借助风 力将杂质除去，达到药物洁净的目的
A.挑选 B.筛除
C.筛选 D.风选
E.水选答案：D解析：D -
第15题：
化学清洗可以清除多数物理清洗不易除去的硬垢和腐蚀产物，特点是费时省工。
正确答案:错误 -
第16题：
陈化过程可以除去由吸咐和吸留引入的杂质离子，但不能除去由混晶共沉淀带入的杂质离子。（）
正确答案:正确 -
第17题：
陈化可增大晶体颗粒，并能除去被吸留的杂质。
正确答案:正确 -
第18题：
风选是根据药物和杂质体积大小不同，借风力将杂质除去。
正确答案:正确 -
第19题：
硝酸镁沉降再生的目的是（）。
- A、除去积累在硝酸镁溶液中的杂质
- B、提高蒸汽分压
- C、提高其脱水能力
- D、提高硝酸镁浓度
正确答案:A,C -
第20题：
沉淀称量法中，洗涤沉淀的目的是为了除去混杂在沉淀中的母液和吸附在沉淀表面上的杂质，以及产生共沉淀的其他离子。
正确答案:错误 -
第21题：
晶体中吸藏的杂质和晶格中的有机溶剂可以通过（）的方式除去。
正确答案:重结晶 -
第22题：
试用适当的化学方法将以下混合物中的少量杂质除去：除去粗乙烷气体中少量的乙炔
正确答案:将乙烷气体通入Cu（NH3）2Cl溶液中洗涤可除去乙炔。 -
第23题：
填空题晶体中吸藏的杂质和晶格中的有机溶剂可以通过（）的方式除去。正确答案： 重结晶解析： 暂无解析