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  • 第1题:

    飞行中,若真空系统压力低警告灯亮,说明().

    • A、真空系统的真空度值低于正常范围
    • B、真空系统的真空度值高于正常范围
    • C、真空系统的真空度值为4.5inHg

    正确答案:A

  • 第2题:

    例出光刻的8个步骤,并对每一步做出简要解释。


    正确答案:第一步:气相成底膜处理,其目的是增强硅片和光刻胶之间的粘附性。
    第二步:旋转涂胶,将硅片被固定在载片台上,一定数量的液体光刻胶滴在硅片上,然后硅片旋转得到一层均匀的光刻胶图层
    第三步:软烘,去除光刻胶中的溶剂
    第四步:对准和曝光,把掩膜版图形转移到涂胶的硅片上
    第五步:曝光后烘培,将光刻胶在100到110的热板上进行曝光后烘培
    第六步:显影,在硅片表面光刻胶中产生图形
    第七步:坚膜烘培,挥发掉存留的光刻胶溶剂,提高光刻胶对硅片表面的粘附性
    第八步:显影后检查,检查光刻胶图形的质量,找出有质量问题的硅片,描述光刻胶工艺性能以满足规范要求

  • 第3题:

    有关用例的描述错误的是()。

    • A、用例将系统的功能范围分解成许多小的系统功能。
    • B、一个用例代表一个子系统的单个目标。
    • C、用例是一个行为上相关的步骤序列。
    • D、用例描述了系统与用户的交互。

    正确答案:B

  • 第4题:

    拉延气孔用于排除空气控制制件成形并避免形成真空,防止由于空气排不出去将制件顶出坑包。


    正确答案:正确

  • 第5题:

    用例图从用户的角度描述系统功能,并指出各()的操作者。

    • A、性能
    • B、功能
    • C、模块
    • D、以上都是

    正确答案:B

  • 第6题:

    用例图、用例描述、系统顺序图和活动图被用来从不同的观点描述系统用例。


    正确答案:正确

  • 第7题:

    以二阶系统为例,简述求解具体系统频谱特性的一般步骤,并简要说出二阶系统的特性。


    正确答案: 一般步骤:
    1)对系统建模
    2)求拉氏变换
    3)求传递函数
    4)求频率响应函数、幅频特性和相频特性;
    5)画相应的图形并分析改进之。
    二阶系统图形有几个关键点,对它进行讨论,并考虑最左最右的趋势。

  • 第8题:

    判断题
    用例图、用例描述、系统顺序图和活动图被用来从不同的观点描述系统用例。
    A

    B


    正确答案:
    解析: 暂无解析

  • 第9题:

    单选题
    电阻真空计的测量范围不包括()。
    A

    低真空

    B

    中真空

    C

    高真空


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第10题:

    单选题
    ()属于电阻真空计的测量范围。
    A

    超高真空

    B

    高真空

    C

    低真空


    正确答案: A
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    单选题
    ()用来描述用例图中每个case,用文本文档来完成。
    A

    活动描述

    B

    状态描述

    C

    类描述

    D

    用例描述


    正确答案: D
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    单选题
    有关用例的描述错误的是()。
    A

    用例将系统的功能范围分解成许多小的系统功能。

    B

    一个用例代表一个子系统的单个目标。

    C

    用例是一个行为上相关的步骤序列。

    D

    用例描述了系统与用户的交互。


    正确答案: C
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    如何调整真空闪蒸罐的真空度?以C1401A为例说明。


    正确答案: C1404A的真空度是通过PV1405A1和PV1405A2实现的。当C1404A的真空度过大时,打开PV1405A2,吸入空气来增大压力,减小真空度。当真空度过小时,调大PV1405A1,减小C1404A压力,增大真空度。

  • 第14题:

    清代著名学者赵翼所说“其参酌古今,发凡起例,创为全史。自此例一定,历代作史者,遂不能出其范围,信史家之极则也”。这部“信史”是指()

    • A、《汉书》
    • B、《墨经》
    • C、《史记》
    • D、《春秋》

    正确答案:C

  • 第15题:

    出钢后将钢包置于真空室内,盖上真空盖后抽真空使钢液内气体由液面逸出的。这种处理方式是()

    • A、RH
    • B、VD
    • C、LF
    • D、UT

    正确答案:B

  • 第16题:

    真空脱氧的基本原理是,依靠真空设备提供的真空压力,降低塔内气体的(),使海水中溶解的气体逸出,并被抽出,从而达到除去海水中的溶解气体的目的。

    • A、浓度
    • B、密度
    • C、温度
    • D、分压

    正确答案:D

  • 第17题:

    ()用来描述用例图中每个case,用文本文档来完成。

    • A、活动描述
    • B、状态描述
    • C、类描述
    • D、用例描述

    正确答案:D

  • 第18题:

    用例描述是指用一个段落概括描述用例的主要成功实现的场景。


    正确答案:错误

  • 第19题:

    什么是用例,用例模型,如何描述用例?


    正确答案: 用例是一个描述性的文档,用来描述一个参与者使用系统完成某个业务过程时的事件发生顺序。用例描述的是系统使用过程,它描述了系统的功能需求。用例不描述系统内部如何工作,而是定义系统的责任,说明系统必须做什么。用例模型是需求工作的一个重要的制品。
    用例一般有Brief,Casual,fullydressed三种类型的描述方式。

  • 第20题:

    单选题
    ()是以图形化的方式将系统描述成用例、参与者及其之间的关系。
    A

    用例图

    B

    用例描述

    C

    用例建模

    D

    用例分解


    正确答案: A
    解析: 暂无解析

  • 第21题:

    问答题
    例出光刻的8个步骤,并对每一步做出简要解释。

    正确答案: 第一步:气相成底膜处理,其目的是增强硅片和光刻胶之间的粘附性。
    第二步:旋转涂胶,将硅片被固定在载片台上,一定数量的液体光刻胶滴在硅片上,然后硅片旋转得到一层均匀的光刻胶图层
    第三步:软烘,去除光刻胶中的溶剂
    第四步:对准和曝光,把掩膜版图形转移到涂胶的硅片上
    第五步:曝光后烘培,将光刻胶在100到110的热板上进行曝光后烘培
    第六步:显影,在硅片表面光刻胶中产生图形
    第七步:坚膜烘培,挥发掉存留的光刻胶溶剂,提高光刻胶对硅片表面的粘附性
    第八步:显影后检查,检查光刻胶图形的质量,找出有质量问题的硅片,描述光刻胶工艺性能以满足规范要求。
    解析: 暂无解析

  • 第22题:

    问答题
    请指出用例图的组成元素及其识别方法,并构建自选项目的用例图并给出相关用例的描述。

    正确答案: 用例的组成元素:参与者、用例、关系。识别方法:1)参与者:Actor,是与系统交互的实体,包括需要和系统交换信息的一切实体。参与者不是系统的一部分,它们处于系统的外部。参与者可能是人、计算机硬件或设备或外部系统。2)用例:usecase,是对系统行为的动态描述,本质上是用户需求的描述,是一个具体的用户目标。3)用例图中存在三种关系,参与者与用例之间的关系、参与者与参与者之间的关系以及用例与用例之间的关系。
    解析: 暂无解析

  • 第23题:

    问答题
    什么是用例,用例模型,如何描述用例?

    正确答案: 用例是一个描述性的文档,用来描述一个参与者使用系统完成某个业务过程时的事件发生顺序。用例描述的是系统使用过程,它描述了系统的功能需求。用例不描述系统内部如何工作,而是定义系统的责任,说明系统必须做什么。用例模型是需求工作的一个重要的制品。
    用例一般有Brief,Casual,fullydressed三种类型的描述方式。
    解析: 暂无解析