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第1题：
模具上的非封胶面，能设计成平面的就不要设计成斜面和曲面，以便于加工。
正确答案:正确 -
第2题：
目前，水基压裂液中最常使用的成胶剂是羟丙基胍胶。（）
正确答案:正确 -
第3题：
胶结剂的主要成份是（）。
- A、透明胶
- B、建筑胶
- C、固态胶
- D、成膜物质
正确答案:D -
第4题：
简述胶箱中的胶被烧焦的原因。
正确答案: （1）温度过高；
（2）加热时间过长；
（3）胶箱液位过低。 -
第5题：
铝酸盐可以做为油基压裂液的（）来使用。
- A、成胶剂
- B、破胶剂
- C、杀菌剂
- D、交联剂
正确答案:D -
第6题：
简述胶粉保温浆料干表观密度试件成型方法及养护方法？成
正确答案: 型方法：将3个空腔尺寸为30mm×30mm×30mm的金属试模分别放在玻璃板上，用脱模剂涂刷试模内壁及玻璃板，用油灰刀将标准浆料逐层加满并略高于试模，为防止浆料留下空孔隙，用油灰刀沿试模壁插数次，然后用抹子抹平，制成3个试件。
养护方法：试件成型后用聚乙烯薄膜覆盖，在实验室温度条件下养护7d后拆模，拆模在实验室标准条件养护21d，然后将试件放入（65±2）℃的烘箱中，烘干至恒重，取出放入干燥器中冷却至室温备用。 -
第7题：
电缆成端灌胶时，胶面应高于芯线根部（）mm以上。
正确答案:20 -
第8题：
问答题简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。正确答案： 光刻胶是一种有机化合物，它受紫外线曝光后在显影液中的溶解度发生显著变化，而未曝光的部分在显影液中几乎不溶解。
光刻胶的用途：①做硅片上的图形模版（从掩膜版转移到硅片上的图形）；
②在后续工艺中，保护下面的材料（例如刻蚀或离子注入）。
光刻对光刻胶的要求：①分辨率高；
②对比度好；
③敏感度好；
④粘滞性好；
⑤粘附性好；
⑥抗蚀性好；
⑦颗粒少。解析： 暂无解析 -
第9题：
问答题简述正胶和负胶显影效果正确答案： 正性光刻胶：曝光区域溶解于显影液，显影后图形与掩模版图形一样
负性光刻胶：曝光区域不溶解于显影液，显影后图形与掩模版图形相反解析： 暂无解析 -
第10题：
单选题胶液凝固成胶块的过程称为（）。A收胶
B凝胶
C胶凝
D闷胶
E切胶
正确答案： A解析： 暂无解析 -
第11题：
问答题混炼胶的分散介质？连续相？正确答案： 混炼胶的分散介质是各种配合剂。混炼胶的连续相是橡胶。解析： 暂无解析 -
第12题：
填空题电缆成端灌胶时，胶面应高于芯线根部（）mm以上。正确答案： 20解析： 暂无解析 -
第13题：
简述间断成胶。
正确答案:所谓间断成胶是先往反应釜中加入一种碱（或酸）性溶液，然后在剧烈搅拌下，再加入另一种酸（或碱）性溶液进行中和成胶，待反应一定时间，再放出物料，这种操作是间断的成胶方法就叫间断成胶 -
第14题：
感光胶分为正性胶和负性胶，简述它们是如何定义。
正确答案: （1）负性胶这种胶在曝光前对某些有机溶剂是可溶的，曝光后发生光聚合反应，不溶于有机溶剂。当用它进行光刻时，在衬底表面将得到与光刻掩模版遮光图案完全相反的图形，故称之为负性胶。
（2）正性胶这种胶在曝光前对某些有机溶剂是不可溶的，而曝光后却变成可溶的，使用它进行光刻时，在衬底表面将得到与光刻掩模版遮光图案完全相同的图形，故称之为正性胶。 -
第15题：
简述密封胶产生泡胶的原因。
正确答案:换胶桶或过滤器时排空不好；产品包装时带入或生产中脱气不彻底 产品触变性过大、压盘与桶壁摩擦大或桶里余料不足，形成空打设备磨损漏气 -
第16题：
注入井筒，进入油层中的冻胶必须加入（），才能在指定时间内返排。
- A、交联剂
- B、成胶剂
- C、破胶剂
- D、杀菌剂
正确答案:B -
第17题：
水硬性胶凝材料是一种和水成浆后既能在（）硬化，又能在（）中硬化的胶凝物质。
正确答案:水中；空气 -
第18题：
简述平面密封胶打胶规范。
正确答案: 要求胶经为3mm，打胶应连续均匀无间断，有盲孔时密封胶应打在内孔的内侧，有通孔时密封胶应连续的涂在孔的周围。 -
第19题：
问答题简述胶粉保温浆料干表观密度试件成型方法及养护方法？成正确答案： 型方法：将3个空腔尺寸为30mm×30mm×30mm的金属试模分别放在玻璃板上，用脱模剂涂刷试模内壁及玻璃板，用油灰刀将标准浆料逐层加满并略高于试模，为防止浆料留下空孔隙，用油灰刀沿试模壁插数次，然后用抹子抹平，制成3个试件。
养护方法：试件成型后用聚乙烯薄膜覆盖，在实验室温度条件下养护7d后拆模，拆模在实验室标准条件养护21d，然后将试件放入（65±2）℃的烘箱中，烘干至恒重，取出放入干燥器中冷却至室温备用。解析： 暂无解析 -
第20题：
问答题简述胶箱中的胶被烧焦的原因。正确答案： （1）温度过高；
（2）加热时间过长；
（3）胶箱液位过低。解析： 暂无解析 -
第21题：
问答题简述正性胶和负性胶的作用原理。正确答案： 光致抗蚀剂根据光照后溶解度变化的不同分为正胶和负胶。
负性光刻胶是在光照下，涂层的溶解度下降，在溶解过程中（也称为显影过程）被保留下来，在化学腐蚀过程中（也称为刻蚀过程）保护氧化层。
正性光刻胶的性能正好相反，感光胶被光照后溶解度增加，在显影过程中被除去，其所覆盖部分在刻蚀过程中被腐蚀掉。解析： 暂无解析 -
第22题：
填空题混炼胶的连续相是（）。正确答案： 橡胶解析： 暂无解析 -
第23题：
问答题简述地下连续墙成槽的方法。正确答案： （1）先以一定间隔挖掘导孔，再用抓斗将导孔间的地段挖掉整修成槽形。较硬土体采用。
（2）先在施工槽段两端钻导孔到设计深度，两导孔间各圆孔只钻0.5～0.8m，就是说在钻孔到0.5～0.8m时，把钻头提到原来位置，把钻机横向移动，一遍一遍重复钻挖直到设计深度，完成第一个槽段开挖。用同样的方法钻挖下一槽段。缺点是钻挖工作重复，效率较低。
（3）从一开始就将沟槽挖到设计深度，并挖成槽形，把钻头提到地面，横向移动钻机，连续钻挖，完成第一个槽段开挖。用同样的方法钻挖下一槽段。从地下连续墙施工来说，这种方法是最理想的形式。解析： 暂无解析