化工化学水装置原水低硅水中含量较高的阴离子有四种,分别为()。
第1题:
制药企业生产纯化水的制备工艺流程有()
A.原水→预处理→阴离子交换→阳离子交换→混合床→纯化水
B.原水→预处理→阳离子交换→阴离子交换→混合床→纯化水
C.原水→阴离子交换→阳离子交换→预处理→混合床→纯化水
D.原水→阳离子交换→阴离子交换→预处理→混合床→纯化水
第2题:
混凝剂的投加量与()有关。
第3题:
制药企业生产纯化水的制备工艺流程有()
第4题:
化工化学水装置使用()水源稀释液氨配备氨水。
第5题:
化工化学水装置是采用()稀释再生剂来进行床体再生的。
第6题:
当原水中()含量较高时,应先对原水进行氯化处理。
第7题:
化工化学水装置处理的新鲜水源是高含盐量的原水。
第8题:
化工化学水装置原水低硅水中含量较高的阳离子有四种,分别为()。
第9题:
化工化学水装置回收工艺冷凝水来水二氧化硅含量应≤200ug/L。
第10题:
保持较高的锅水碱度
适当增加磷酸盐用量
选用腐植酸钠或有机水质稳定剂
减少磷酸盐用量
第11题:
第12题:
原水水温与水中杂质含量
原水水温与水中杂质种类与含量
原水水中杂质种类及含量
原水水温与水中杂质种类
第13题:
采用锅内加药时,如果原水中硅含量较高,采用()措施不起作用。
A保持较高的锅水碱度
B适当增加磷酸盐用量
C选用腐植酸钠或有机水质稳定剂
D减少磷酸盐用量
第14题:
化工化学水装置低硅水来水压力要求控制在()MPa。
第15题:
当原水中有机物含量较高时,应先对原水进行()。
第16题:
化工化学水装置,混床出水二氧化硅含量应<20μg/L。
第17题:
当原水碱度较高,化学除盐宜采用强酸阳离子一除碳一弱碱阴离子一强碱阴离子系统处理。()
第18题:
化工化学水装置低硅水来水CODMn控制指标≤()mg/L。
第19题:
化工化学水装置一级系列阳床进水中残余活性氯含量小于()mg/L。
第20题:
化工化学水装置采用原水低硅水稀释再生剂用于床体再生。
第21题:
采用锅内加药处理时,如果原水中硅含量较高,宜采用的措施是()。
第22题:
保持较高的锅水碱度(标准内)
适当增加磷酸盐用量
选用腐植酸钠或有机水质稳定剂
保持较高的锅炉排污率
第23题: