第1题:
下列可以降低装置空速的措施有()。
第2题:
催化剂分层还原的优点有()
第3题:
降低空速之前要先降低()。
第4题:
空速主要是通过()的大小来调节的。
第5题:
在全静压系统中备用高度/空速表的静压来自备用静压孔而全压是来自于()。
第6题:
触媒热点倒挂的原因()
第7题:
如何加大合成反应速度,正确的是()
第8题:
空速与处理量的关系是()
第9题:
合成塔空速是每小时通过每m3触媒的反应气量。
第10题:
工艺气体加负荷过大,使工艺气体流经触媒的空速太快,出口CH4含量也会增高
第11题:
合成塔压差过高的原因主要有哪些?()
第12题:
LADC全压来自()
第13题:
安装空速管套前()
第14题:
在触媒使用一段时间后,如果循环气中一氧化碳含量持续上升,为控制其含量的稳定,采用调节()。
第15题:
空速的大小会影响反应深度,过大使反应深度不够则降低(),空速过小则相反。
第16题:
高空速有利于触媒的还原,所以空速越高越好。
第17题:
触媒层温度突然下降,系统压力突然上升的原因是()
第18题:
触媒层温度突然下降,系统压力()
第19题:
合成触媒升温时,气体空速不能低于()Nm3/h。
第20题:
氢气循环量的大小采用()表示
第21题:
合成触媒使用后期,应提高反应温度、降低惰气含量和降低空速操作,以保证粗甲醇合成率。
第22题:
合成新鲜气通过合成触媒时,空速越小越好。
第23题:
关于加氢装置反应空速说法正确的是()。