微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。A、干法刻蚀、湿法刻蚀B、离子束刻蚀、激光刻蚀C、溅射加工、直写加工D、以上都可以

题目

微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。

  • A、干法刻蚀、湿法刻蚀
  • B、离子束刻蚀、激光刻蚀
  • C、溅射加工、直写加工
  • D、以上都可以

相似考题
参考答案和解析
正确答案:A
更多“微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。”相关问题
  • 第1题:

    野菜的加工技术有哪两种?其原理是什么?


    正确答案: 1.盐渍加工技术-----原理:利用高浓度(随时间长短而定,2—35%)食盐溶液所产生的高渗透压,使表面腐败菌质壁分离而死亡,使野菜水分外渗导致生命活动停止,达到防止野菜腐败变质的目的。
    2.干制品加工技术-----原理:低水、高渗,抑制。

  • 第2题:

    微细加工工艺方法主要有:(),光刻加工,体刻蚀加工技术,面刻蚀加工技术,LIGA技术,()和()。


    正确答案:超微机械加工;封接技术;分子装配技术

  • 第3题:

    下列不属于离子束加工技术的是()。

    • A、离子束刻蚀
    • B、离子束焊接
    • C、离子注入技术
    • D、离子束镀膜技术

    正确答案:B

  • 第4题:

    什么是酸化?按照酸化工艺不同,酸化可分为哪两种?


    正确答案: 酸化是油水井重要的增产增注措施之一,它是利用酸液的化学溶蚀作用及向地层挤酸时的水力作用,解除油层堵塞,扩大和连通油层孔缝,恢复和提高油层近井地带的渗透率,从而增加油水井产量。
    酸化分为常规酸化和压裂酸化两类。
    常规酸化是指挤酸压力低于地层破裂压力的一类酸化,主要依靠酸液的化学溶蚀作用,清除堵塞,扩大和延伸空隙,缝洞。
    压裂酸化简称酸压,用酸液作压裂液,酸液同时对裂缝壁起化学溶蚀作用和水力压裂作用,保持导流能力和沟通空隙,缝洞。酸压多在碳酸盐地层中采用。

  • 第5题:

    问答题
    在STI的刻蚀工艺过程中,要注意哪些工艺参数?

    正确答案: ①STI etch(刻蚀)的角度;
    ②STI etch 的深度;
    ③STI etch 后的CD尺寸大小控制。
    (CD control, CD=critical dimension)
    解析: 暂无解析

  • 第6题:

    问答题
    半导体工艺技术的主要掺杂工艺包括哪两种?

    正确答案: 扩散和离子注入
    解析: 暂无解析

  • 第7题:

    问答题
    简述IC芯片工艺过程中包括的刻蚀工艺过程

    正确答案: (1)图形化和整面全*区刻蚀。
    (2)单晶硅刻蚀用于浅槽隔离。
    (3)多晶硅刻蚀用于界定栅和局部互连线。
    (4)氧化物刻蚀界定接触窗和金属层间接触孔。
    (5)金属刻蚀形成金属互连线。
    (6)氧化层CMP停止在氮化硅层后的氮化硅剥除工艺。
    (7)电介质的非等向性回刻蚀形成侧壁空间层。
    (8)钛金属硅化物形成合金之后的钛剥离。
    解析: 暂无解析

  • 第8题:

    问答题
    简述微细加工工艺方法。

    正确答案: 超微机械加工、光刻加工、体刻蚀加工、面刻蚀加工、LIGA技术、封接技术、分子装配技术。
    解析: 暂无解析

  • 第9题:

    单选题
    硅微体刻蚀加工和硅微面刻蚀加工的区别在于()。
    A

    a.体刻蚀加工对基体材料进行加工,而面刻蚀加工不对衬底材料进行加工;

    B

    b.体刻蚀加工不对基体材料进行加工,而面刻蚀加工对衬底材料进行加工;

    C

    c.体刻蚀加工可获得高纵横比的结构,而面刻蚀加工只能获得较低纵横比的结构;


    正确答案: A
    解析: 暂无解析

  • 第10题:

    填空题
    微细加工工艺方法主要有:(),光刻加工,体刻蚀加工技术,面刻蚀加工技术,LIGA技术,()和()。

    正确答案: 三束加工技术,牺牲层技术,外延生长技术
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    填空题
    微细加工技术是指制造()零件的精密加工技术。

    正确答案: 高精度
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    填空题
    ()加工是目前特种加工工艺方法中最精密、最微细的加工方法。

    正确答案: 离子束
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()。

    • A、刻蚀
    • B、氧化
    • C、淀积
    • D、光刻

    正确答案:D

  • 第14题:

    硅微体刻蚀加工和硅微面刻蚀加工的区别在于()

    • A、体刻蚀加工对基体材料进行加工,而面刻蚀加工不对衬底材料进行加工
    • B、体刻蚀加工不对基体材料进行加工,而面刻蚀加工对衬底材料进行加工
    • C、体刻蚀加工可获得高纵横比的结构,而面刻蚀加工只能获得较低纵横比的结构

    正确答案:C

  • 第15题:

    什么是切削运动?根据作用的不同,可分为哪两种运动?试分析车削和铣削加工中的切削运动?


    正确答案: 机床为实现切削加工,刀具和工件之间的相对运动;主运动、供给运动;车削:工件的旋转运动为主运动,刀具的直线运动为供给运动;铣削:铣刀的旋转运动为主运动,工件的直线或回转运动为供给运动

  • 第16题:

    单选题
    微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。
    A

    a.离子束刻蚀、激光刻蚀

    B

    b.干法刻蚀、湿法刻蚀

    C

    c.溅射加工、直写加工


    正确答案: A
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  • 第17题:

    填空题
    圆筒式等离子刻蚀的(),适用于()工艺;反应离子刻蚀,(),可以用通入不同的工艺气体,实现好的选择性,适合于对()和()的刻蚀。

    正确答案: 方向性差,刻蚀速率慢,过刻蚀性能好,去胶,方向性好,刻蚀速率高,SiO2、Al、Si3N4,多晶硅
    解析: 暂无解析

  • 第18题:

    填空题
    刻蚀剖面指的是(),有两种基本的刻蚀剖面()刻蚀剖面和()刻蚀剖面。

    正确答案: 被刻蚀图形的侧壁形状,各向同性,各向异性
    解析: 暂无解析

  • 第19题:

    单选题
    现代集成电路制造工艺中,主流掺杂技术为()
    A

    扩散

    B

    化学机械抛光

    C

    刻蚀

    D

    离子注入


    正确答案: A
    解析: 暂无解析

  • 第20题:

    填空题
    集成电路制造工艺技术主要包括:热工艺、()、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。

    正确答案: 离子注入
    解析: 暂无解析

  • 第21题:

    多选题
    下面的哪些工艺手段可以解决常规加工手段无法解决的工艺难题。()
    A

    大面积镜面加工

    B

    小径长孔

    C

    切断加工

    D

    微细加工

    E

    螺纹加工


    正确答案: A,D
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  • 第22题:

    问答题
    从刻蚀工艺上可以将刻蚀分为什么种类?

    正确答案: 干法刻蚀和湿法刻蚀
    解析: 暂无解析

  • 第23题:

    问答题
    什么是切削运动?根据作用的不同,可分为哪两种运动?试分析车削和铣削加工中的切削运动?

    正确答案: 机床为实现切削加工,刀具和工件之间的相对运动;主运动、供给运动;车削:工件的旋转运动为主运动,刀具的直线运动为供给运动;铣削:铣刀的旋转运动为主运动,工件的直线或回转运动为供给运动
    解析: 暂无解析