下面关于集成电路的叙述中错误的是()
第1题:
微电子技术特别是集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路的叙述中错误的是()。
A.集成电路的集成度指的是单个集成电路所含电子元件(如晶体管、电阻、电容等)的数目多少
B.根据集成度的高低,集成电路可以分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模等几种
C.嵌入式系统中使用的处理器芯片属于大规模集成电路
D.集成电路的制造工艺复杂且技术难度非常高,许多工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成
第2题:
集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路技术发展的叙述中,错误的是:()。
A.单块集成电路的集成度平均每18~24个月翻一番
B.集成电路的工作频率越来越高,功耗越来越低
C.当前集成电路批量生产的主流技术已经达到45nm、32nm甚至更小的工艺水平
D.集成电路批量生产使用的晶圆直径已经达到12~14英寸甚至更大
第3题:
(24)下面关于启动进程机制的叙述中,错误的是( )。
A)在DOS中是EXEC函数
B)在Windows中是CreateProcess函数
C)在OS/2中是CreateProcess函数
D)在DOS中是CreateProcess函数
第4题:
第5题:
微电子技术是现代信息技术的基础之一,而微电子技术又以集成电路为核心。下列关于集成电路的叙述中,错误的是()
第6题:
下列关于集成电路的叙述中错误的是()
第7题:
I2C即集成电路互连总线
I2C具有SDA、SCL和ACK共3条信号线
I2C传送数据时,每次传送的字节数目没有限制
I2C是多主总线
第8题:
现代信息技术的主要特征是采用电子技术进行信息的收集、传递、加工、存储、显示和控制
现代集成电路使用的半导体材料主要是硅
集成电路的工作速度主要取决于组成逻辑门电路的晶体管数量
当集成电路的基本线宽小到纳米级时,将出现一些新的现象和效应
第9题:
集成电路是上世纪50年代出现的
集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成
集成电路均使用半导体硅材料
集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系
第10题:
集成电路是将大量晶体管、电阻及互连线等制作在尺寸很小的半导体单晶片上
现代集成电路使用的半导体材料通常是硅或砷化镓
集成电路根据它所包含的晶体管数目可分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模集成电路
集成电路按用途可分为通用和专用两大类。微处理器和存储器芯片都属于专用集成电路
第11题:
集成电路是上世纪50年代出现的
集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成
集成电路使用的都是半导体硅材料
集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切的关系
第12题:
集成电路是现代信息产业的基础之
集成电路只能在硅(Si)衬底上制作而成
集成电路的特点是体积小、重量轻、可靠性高
集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管的尺寸密切相关
第13题:
下面关于I2C的叙述中,错误的是()。
A.I2C即集成电路互连总线
B.I2C是一种串行半双工传输的总线
C.I2C总线只能连接一个主控器件
D.I2C传送数据时,每次传送的字节数目没有限制
第14题:
下面关于生物技术药物的叙述错误的是( )
第15题:
下面关于启动进程机制的叙述中,错误的是( )。
A)在DOS中是EXEC函数
B)在Windows中是CreateProcess函数
C)在OS/2中是CreateProcess函数
D)在DOS中是CreateProcess函数
第16题:
在下列有关集成电路的叙述中,错误的是()。
第17题:
下面关于集成电路(IC)的叙述中,正确的是()。
第18题:
下列关于集成电路的说法中错误的是()
第19题:
集成电路的发展导致了晶体管的发明
现代计算机的CPU均是超大规模集成电路
小规模集成电路通常以功能部件、子系统为集成对象
所有的集成电路均为数字集成电路
第20题:
集成电路有小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模等多种,嵌入式处理器芯片一般属于大规模集成电路
集成电路的制造大约需要几百道工序,工艺复杂且技术难度非常高
集成电路大多在硅衬底上制作而成,硅衬底是单晶硅锭经切割、研磨和抛光而成的圆形薄片
集成电路中的电路及电子元件,需反复交叉使用氧化,光刻,掺杂和互连等工序才能制成
第21题:
目前已经可以将数字电路、模拟电路和射频电路等集成在同一芯片上
当前最复杂的CPU芯片所集成的晶体管数目已多达10亿个
当前速度最快的CPU芯片时钟频率已经高达10GHz
微机电系统(MEMS)在芯片上融合了光﹑机﹑电等多种不同类型的构件
第22题:
集成电路的规模是根据其所包含的电子元件数目进行划分的
大规模集成电路一般以功能部件和子系统为集成对象
现代集成电路使用的半导体材料主要是硅
集成电路技术发展很快,至今已达到线宽0.001um的工艺水平
第23题:
集成电路是上世纪50年代出现的
集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成
集成电路使用的都是半导体硅(Si)材料
集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系