EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，浓水流量应为给定范围的下限。

第1题：

EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，产品水流量应该在给定范围的上限。

A对

B错

第2题：

EDI模块内部树脂再生操作方法：浓水流量、极水流量调整至规定的下限值，产品水流量调整至规定的上限值，慢慢增加电流至规定的上限值。

A对

B错

第3题：

为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高。

A对

B错

第4题：

为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI产品水补充。

第5题：

为了防止EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，浓水出口应当保持一定的背压。

第6题：

变价金属离子对EDI组件的影响是离子不能被完全清除，使产品水的电阻率降低。

第7题：

为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高。

第8题：

第9题：

第10题：

第11题：

第12题：

第13题：

为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。

A浓水出口

B极水出口

C给水

D浓水和极水出口

第14题：

为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI产品水补充。

A对

B错

第15题：

EDI组件实际运行电流低于规定值，可能引起离子极化现象使产品水的电阻率降低。

第16题：

为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI（）补充。

• A、浓水
• B、极水
• C、淡水
• D、给水

第17题：

EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，产品水流量应该在给定范围的上限。

第18题：

EDI模块内部树脂再生操作方法：浓水流量、极水流量调整至规定的下限值，产品水流量调整至规定的上限值，慢慢增加电流至规定的上限值。

第19题：

EDI组件给水二氧化碳含量和pH值将明显影响产品水电阻率。

第20题：

第21题：

第22题：

第23题：