相关显示与非相关显示是由漏磁场形成的磁痕显示，而伪显示不是由漏磁场形成的磁痕显示。

第1题：

解释磁粉显示时，必须考虑的因素是（）

• A、磁场的方向
• B、磁粉显示处的漏磁场强度
• C、磁粉显示的形状和方向
• D、以上都是

第2题：

相关显示是由缺陷产生的漏磁场吸附磁粉形成的，非相关显示不是由漏磁场产生的。

第3题：

相关显示是由漏磁场吸附磁粉形成的磁痕显示。

第4题：

当磁场方向与缺陷延伸方向平行时（），发现不了缺陷。

• A、产生强磁痕显示 
• B、产生弱磁痕显示 
• C、不产生磁痕显示 
• D、模糊的磁痕显示

第5题：

非相关磁痕由漏磁场产生。

第6题：

第7题：

第8题：

第9题：

第10题：

第11题：

第12题：

第13题：

非相关显示不是来源于缺陷，但却是由漏磁场产生的。

第14题：

关于磁痕显示的叙述，正确的是（）

• A、非相关显示不是由漏磁场吸附磁粉磁粉形成的
• B、表面缺陷磁痕一般宽而模糊、轮廓不清晰
• C、近表面缺陷磁痕一般浓密清晰、瘦直或弯曲
• D、以上都不对

第15题：

相关显示是漏磁场与磁粉相互作用的结果。

第16题：

磁粉探伤是利用缺陷部位所形成的漏磁场吸附磁粉从而显示缺陷的方法。

第17题：

JB/T4730标准规定，磁痕显示分为相关显示、非相关显示和（）

第18题：

第19题：

第20题：

第21题：

第22题：

第23题：